システム要約 高濃度含塵ガスがベンチュリスクラバーに入って、高速（60～120m/sec）でスロート部を通過します。ガス中の粒状汚染物は噴射された洗浄水粒子と衝突して捕集されます。次に設けられる低圧力損失サイクロンセパレーター或いは高効率デミスターにより、洗浄液滴は気体流から除かれ、回収されます。 洗浄液は絶えず粒状汚染物を捕集し循環して、スロート部に使用されます。ベンチュリスクラバーは小粒径の粒状汚染物（PM 2.5）及び気体汚染物を除去できます。気体の粒径が圧力損失に影響を与えるけど、通常操作の圧力損失は200～2000mm W.C.程度です。 標準材質 □ ガラスファイバー □ 難燃性ガラスファイバー（オプション） □ HDPE, PP, PVC, CPVC □ SUS 304/316/316L/317L □ ニッケルクロム合金、ハステロイ合金 構造原理 ベンチュリスクラバーは集束部、スロート部及び拡散部から構成されます。ガスが集束部に入る時、断面積が小さくなっており、気体流速が増します。洗浄液は集束部に注入され、スロート部に加速されます。ガスが高速で液体と衝突し混じって、大量な微小水滴が生じます。スロート部に粒状及び気体汚染物が水滴に包まれて、除去されます。 気体は拡散部で速度が遅くなります。ベンチュリは同時に粒状及び気体汚染物を除去できます。一般的に粒子状の汚染物質の除去に応用してます。処理過程中洗浄液が絶えず集束部及びスロート部に注入されます。濡れてるベンチュリは高温気体（230℃）及び含塵ガスを有効的に処理できます。尚、濡れてるスロート部は乾燥摩擦の問題を避けられます。
